이재용(사진) 삼성전자 부회장이 20일 이달부터 본격 가동을 시작한 화성사업장 극자외선(EUV) 전용 반도체 생산라인을 찾아 시스템 반도체 1위 달성에 대한 강한 의지를 안팎에 드러냈다.
이 부회장이 반도체 생산기지인 화성사업장을 찾은 것은 올 들어 두 번째다. 앞서 이 부회장은 지난달 2일 새해 첫 경영행보로 화성캠퍼스 반도체연구소를 방문해 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노미터(㎚) 반도체 공정기술을 보고받은 바 있다. 이 부회장이 두 달도 안 돼 화성사업장을 다시 찾아 EUV 전용 라인을 직접 챙긴 것은 오는 2030년 시스템 반도체 1위 달성 목표에 EUV 라인이 핵심 역할을 할 것으로 기대되기 때문이다.
이 부회장은 또 이날 디바이스솔루션(DS) 부문장인 김기남 부회장, 정은승 파운드리사업부장 등과 함께 화성사업장 내 EUV 전용 라인인 ‘V1 라인’을 방문해 임직원들을 격려하고 시스템반도체 사업 전략 회의를 열었다. 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 확산에 따른 반도체 수요 감소와 중국 내 사업에 대한 논의도 있었던 것으로 알려졌다. 이 부회장은 “지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 끼웠다”며 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 말했다.
이 부회장이 찾은 V1 라인은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인으로 최근 본격적으로 7나노 이하 반도체 생산에 들어갔다. 이 라인은 앞으로 7나노부터 3나노까지 차세대 파운드리(반도체 위탁생산) 주력 제품을 생산할 계획이다. 삼성전자는 이 라인을 짓는 데 약 60억달러를 투자했다.
극자외선 파장의 광원을 이용해 회로 패턴을 새겨넣는 EUV 기술은 회로 선폭이 7나노 이하인 초미세 반도체를 만들기 위해 꼭 필요한 기술이다. EUV 기술을 적용하면 기존 공정보다 더 작고 성능은 높으면서 전력을 적게 소모하는 반도체를 만들 수 있다. 또 수율이 높아지고 제품 출시 기간도 단축할 수 있다. 현재 전 세계에서 7나노 이하 반도체를 만들 수 있는 업체는 삼성전자와 세계 1위 파운드리 기업인 대만 TSMC 두 곳뿐이다. 삼성전자는 EUV 전용 라인을 앞세워 TSMC와의 초미세 공정 경쟁에서 승기를 잡고 파운드리 시장 1위에 오른다는 계획이다.
당장 V1 라인 가동으로 올해 말 기준 삼성전자의 7나노 이하 제품 생산 규모는 지난해보다 3배 이상 늘어날 것으로 예상된다. 7나노 미만 제품들도 공정 기술 개발을 마치고 순차적으로 양산에 들어간다.
삼성전자는 지난해 하반기부터 6나노 제품 양산을 시작했고 지난해 제품 설계를 마친 5나노 제품은 올해 양산에 들어간다. 첫 5나노 생산 제품은 최근 미국 퀄컴에서 수주한 5세대(5G) 이동통신 모뎀칩이 될 것으로 보인다. 4나노와 3나노 제품의 양산 시기는 2021~2022년께로 예상된다. 업계에서는 삼성전자와 TSMC의 초미세 공정 로드맵이 대체로 비슷한 수준으로 보고 있다.
삼성전자의 한 관계자는 “최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴·바이두 등 대형 반도체 설계 업체와 협력을 추진하며 모바일부터 고성능 컴퓨팅 분야까지 파운드리 영역을 확대하고 있다”면서 “V1 라인은 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것”이라고 말했다.
/이재용기자 jylee@sedaily.com
< 저작권자 ⓒ 서울경제, 무단 전재 및 재배포 금지 >
jylee@sedaily.com
