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![美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <1편>](https://newsimg.sedaily.com/2024/01/06/2D3Z8LO35W_13.jpg)
조 바이든(오른쪽) 미국 대통령과 시진핑 중국 국가 주석. 사진=로이터연합뉴스
![美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <1편>](https://newsimg.sedaily.com/2024/01/06/2D3Z8LO35W_14.png)
사진제공=ASML, 사이머
![美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <1편>](https://newsimg.sedaily.com/2024/01/06/2D3Z8LO35W_15.jpg)
193나노미터 파장의 ArF 레이저. 자료제공=삼성전자
![美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <1편>](https://newsimg.sedaily.com/2024/01/06/2D3Z8LO35W_16.png)
사진제공=사이머
![美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <1편>](https://newsimg.sedaily.com/2024/01/06/2D3Z8LO35W_17.jfif)
![美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <1편>](https://newsimg.sedaily.com/2024/01/06/2D3Z8LO35W_18.jpg)
사이머의 DUV 생성 장비. 사진제공=사이머
조 바이든(오른쪽) 미국 대통령과 시진핑 중국 국가 주석. 사진=로이터연합뉴스
사진제공=ASML, 사이머
193나노미터 파장의 ArF 레이저. 자료제공=삼성전자
사진제공=사이머
사이머의 DUV 생성 장비. 사진제공=사이머