美 DUV 장비 규제가 중국 반도체에 부담인 이유 [강해령의 하이엔드 테크] <2편>
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조 바이든(오른쪽) 미국 대통령과 시진핑 중국 국가 주석. 사진=로이터연합뉴스
ASML의 EUV 노광기. 사진제공=ASML
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DUV와 EUV 노광의 차이. 사진제공=삼성전
사진출처=삼성전자, 삼성디스플레이, 구글
ASML DUV 노광기 내부의 렌즈 구조는 이렇게나 복잡합니다. 독일의 광학계 기업 칼 자이스와 ASML의 협력이 돋보입니다. 사진제공=ASML, 자이스, SPIE
사진출처=구글
SMEE의 28나노 노광기. 사진제공=SMEE
사진출처=ASML, TEL, Nuflare, 사이머