램리서치, 극저온 낸드 채널홀 식각 기술 '램 크라이오 3.0' 공개

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램리서치, 극저온 낸드 채널홀 식각 기술 '램 크라이오 3.0' 공개 램리서치 극저온 식각 공정. 사진제공=램리서치
램리서치, 극저온 낸드 채널홀 식각 기술 '램 크라이오 3.0' 공개

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