클린룸 간 윤 대통령도 못 했다, ASML EUV 노광기 '언팩' [강해령의 하이엔드 테크] <1편>
이전
다음
윤석열(가운데) 대통령이 지난 12일(현지 시간) 네덜란드 벨트호벤 ASML 본사에서 피터 베닝크(왼쪽) ASML CEO, 빌럼-알렉산더르 국왕과 함께 ASML 제조 설비를 둘러보고 있습니다. 사진=연합뉴스
윤석열(오른쪽 네번째) 대통령과 이재용(왼쪽에서 세번째) 삼성전자 회장, 최태원(맨 오른쪽) SK그룹 회장이 네덜란드 ASML 하이-NA 랩에서 EUV 차세대 노광 기기를 살펴보고 있습니다. 사진제공=대통령실
이재용(오른쪽 두번째) 삼성전자 회장과 경계현(오른쪽 세번째) 삼성전자 DS부문 사장이 16일 네덜란드 방문 일정을 마치고 김포 공항을 통해 입국했습니다. 사진=연합뉴스
크게 세 개 파트로 나눠서 살펴봅시다. EUV 생성 공간, 마스크 부분, 그리고 미러 부분이 아주 잘 맞물려서 웨이퍼 위에 회로를 찍어냅니다. 사진제공=ASML
ASML EUV 노광기 생성기 부분. 일정하고 빠르게 떨어지는 주석과 질주하는 CO₂ 레이저가 충돌하면서 EUV를 만들어냅니다. 미국 사이머, 독일 자이스의 렌즈와 트럼프 레이저가 만나 이 엄청난 기술을 만들었습니다. 사진 출처=ASML, IBM, 유튜브
사진 출처=ASML, 미쓰이화학
사진 출처=ASML, 구글