전자기술연구원·그래핀랩, 차세대 반도체 소재·부품 개발에 맞손

그래핀 소재 기반 EUV 펠리클 핵심공정 기술개발 MOU 체결

KETI와 그래핀랩 관계자들이 5일 ‘그래핀 기반 차세대 극자외선(EUV) 펠리클 핵심공정 기술 개발을 위한 업무협약’을 체결한 후 기념촬영을 하고 있다. 사진 제공=KETI

한국전자기술연구원(KETI)은 그래핀랩과 ‘그래핀 기반 차세대 극자외선(EUV) 펠리클 핵심공정 기술 개발을 위한 업무협약’을 5일 체결했다고 밝혔다.

그래핀 흑연은 탄소 원자들이 육각형 벌집 모양의 그물처럼 배열된 평면 층이 쌓여 있는 구조이며, 이 흑연의 한 층을 그래핀이라고 한다. EUV는 극자외선 파장의 광원을 활용한 반도체 제조공정으로 모든 면에 균일한 박막 형성이 가능해 차세대 반도체 핵심기술로 꼽힌다. 펠리클은 EUV 노광 공정용 투과 소재로 구성된 회로가 새겨진 포토 마스크 표면을 외부 오염으로부터 보호해 주는 반도체 공정용 소모성 부품을 말한다.

KETI는 2020년 5월 과학기술정보통신부의 지원으로 출범한 국가핵심소재연구단 ‘EUV 마스크·펠리클 소재연구단’의 총괄 연구기관이다. 2세대 EUV 펠리클 원천소재 확보를 통해 국내 소부장 기업으로의 기술 확산 및 대일 의존도가 높은 소재·부품의 국산화를 추진 중이다.



그래핀랩은 양산급 제조 인프라를 기반으로 그래핀을 생산·공급하는 기업으로 주요 대학과 연구소에서 필요로 하는 연구 개발용 그래핀 소재를 생산 중이다. 지난해에는 소재·부품·장비 전문기업확인서를 취득한 바 있다.

KETI와 그래핀랩은 이번 업무협약을 통해 △EUV 펠리클 핵심공정 기술 분야 공동 사업 발굴·기획 및 공동 연구 협력 △산·연 EUV 펠리클 공동 연구실 개소 및 2세대 펠리클 제조기술 협력 △EUV 펠리클 제조 핵심공정 기술 분야 인력 교류 등을 공동 추진할 예정이다.

공동 연구실은 두 기관이 보유하고 있는 원자층증착(ALD), 화학기상증착(CVD) 장비 및 분석 설비 등의 공동 활용으로 2세대 EUV 펠리클 제조기술 개발 및 신규 응용분야 탐색 등 협력을 강화한다.

장영진 KETI 원장은 “KETI가 보유한 EUV 펠리클 관련 핵심기술과 그래핀랩의 그래핀 소재 및 장비 양산화 경험이 더해지면 차세대 반도체 소재·부품의 기술수준을 향상시킬 수 있다”며 “또 다양한 고부가가치 소재 및 응용 분야에서도 우수한 산연 협력 성공사례를 창출할 수 있을 것”이라고 기대감을 밝혔다.