SK하이닉스(000660) 반도체 핵심 기술과 삼성전자(005930) 계열사의 첨단 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소된 협력업체 부사장과 핵심 임직원들이 항소심에서 원심보다 높은 형을 선고받았다.
서울고등법원 형사7부(이재권·송미경·김슬기 부장판사)는 18일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 재판에 넘겨진 A협력업체 부사장 신 모 씨에게 징역 1년의 원심을 파기하고 징역 1년 6개월로 선고했다. 회사 연구소장인 임 모 씨와 영업그룹장인 박 모 씨에게도 각 징역 1년 6개월에 벌금 5000만 원을 선고했다. 다만 신 씨 등 실형을 선고받은 피고인들에 대해서는 법정구속을 하지 않았다. 양벌 규정(범죄가 이뤄진 경우 행위자 뿐만 아니라 법인에 대해서도 형을 내리는 규정)으로 함께 기소된 A회사에 대해서는 원심보다 6억 원 높은 10억 원 벌금형을 내렸다. 나머지 피고인들은 징역 6개월~8개월에 집행유예 2년이 선고됐다.
법원는 하이닉스와 A회사의 공공개발 결과물이나 하이닉스로부터 제공받은 정보기술에 기초해 파생한 기술은 자유롭게 사용 가능하다는 원심의 판단을 뒤집었다. 재판부는 “공동개발계약의 내용을 비춰볼 때 파생 기술을 제3자에게 은밀하게 제공하는 행위는 적어도 사전에 하이닉스의 서면 동의를 얻거나, 처음부터 사전 동의 대상에 해당하지 않는 금지행위로 해석하는 것이 타당하다”고 설명했다. 원심에서는 A회사가 해당 기술을 대외에 공표할 경우에만 하이닉스에 동의를 구하면 된다고 판시했다.
재판부는 “신 씨는 최종 의사결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여한 정황이 드러났다”며 “피해 회사뿐만 아니라 우리나라 전반에 어떤 산업에도 큰 영향을 미치는 행위라고 볼 수 있다”고 비판했다. 이어 “임 씨와 박 씨도 각각 연구소장과 영업그룹장으로서 범행에 깊이 관여하여 하이닉스에 심각한 피해를 초래했다”고 덧붙였다.
신 씨를 포함한 A사 임직원들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 하이닉스 협업 과정에서 알게 된 HKMG로 불리는 반도체 제조기술과 세정 레시피 등을 중국 경쟁업체에 유출시킨 혐의로 재판에 넘겨졌다. HKMG는 누설전류를 막고 정전 안정성을 개선한 차세대 공정으로, D램 반도체 속도를 빠르게 하면서도 소모전력을 줄이는 신기술로 평가받는다. 이들은 삼성전자의 자회사인 세메스의 전직 직원으로부터 취득한 초임계 세정 장비 도면 등을 활용해 중국 수출용 반도체 장비를 개발한 혐의도 있다.
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