삼성전자가 일본 요코하마시에 신설할 첨단 반도체 연구개발(R&D) 거점에 최대 200억 엔(약 1800억 원)을 보조한다고21일 발표했다.
교도통신과 니혼게이자이신문의 보도에 따르면 일본 경제산업성은 삼성전자가 요코하마시에서 차세대 반도체 R&D 거점을 세우기로 했다면서 이같이 밝혔다. 삼성전자의 일본 내 새 R&D 거점을 위한 투자액은 400억 엔 수준으로 알려졌으며 일본 정부는 반도체 산업 진흥을 위해 ‘포스트5G기금’으로 절반가량을 지원하기로 했다.
삼성전자는 이 R&D 거점에서 일본의 반도체 소재 및 장치 업체 등과 협력해 인공지능(AI), 5세대(5G) 이동통신용 반도체 등의 후공정 기술 연구를 진행한다고 닛케이는 전했다.
일본 정부는 자국 내 반도체 제조 능력을 높이기 위해 해외 기업 유치 정책을 펼쳐왔으며 그동안 대만 기업인 TSMC의 구마모토 공장 건립 등에도 보조금을 지원하기로 한 바 있다. 경제산업성은 이날 총리 관저에서 투자 촉진책을 논의하기 위해 개최한 민관 합동 회의에서도 이런 내용을 보고했다.
기시다 후미오 총리는 회의에서 “일본에 대한 투자에 전 세계 기업의 관심이 모이고 있다”고 말했다고 교도통신은 전했다.
일본 정부는 2024년도(2023년 4월∼2024년 3월) 100조 엔 규모로 예상되는 일본 내 민간 설비투자를 2027년도 115조 엔까지 늘리는 것을 목표로 11개 부처의 205개 시책으로 구성된 정책 패키지도 이번 회의에서 제시했다.
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