삼성 '국가핵심기술' 중국에 넘긴 전 삼성 연구원 재판行

삼성 4조 투입 D램 공정기술 빼돌려

中지방정부에 4000억 투자받기도

삼성전자 반도체 사업장.

삼성전자가 4조원을 투입한 국가핵심기술을 중국으로 빼돌린 전 삼성 직원들이 재판에 넘겨졌다.

27일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(안동건 부장검사)는 전 삼성전자 직원이자 중국 반도체 회사 대표 최모(66)씨와 공정설계실장 오모(60)씨를 산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반 혐의로 구속기소했다. 피의자들이 설립한 회사는 중국 지방정부로부터 4000억 원 가량을 투자받고 삼성전자의 국가핵심기술인 D램 공정기술을 부정사용해 20나노 D램을 개발했다.



이들은 과거 삼성전자 핵심 연구직으로 근무한 직원으로 최씨는 삼성과 하이닉스반도체(현 SK하이닉스)에서 30년 가량 근무한 국내 반도체 업계 전문가로 꼽힌다.

중국으로 넘어간 공정기술은 개발비만 4조 원 가량 들어간 것으로 파악된다. 이들이 빼간 기술은 글로벌 반도체 회사들도 통상 4~5년 걸리는 D램 반도체 공정기술이다. 일당은 기술 부정 사용으로 불과 1년 6개월 만에 공정을 개발 완료해 중국에서 2번째로 D램 시범 웨이퍼 생산에 성공했다. 업계와 검찰 등에 따르면 최종 양산에 성공할 경우 피해액만 최소 수십조원에 달할 것으로 예상된다.

경찰로부터 사건을 넘겨받은 검찰은 추가 수사를 통해 최씨가 중국 반도체 회사 지분 860억원 상당을 받고 보수 명목으로 18억원의 범죄수익도 취득한 사실을 밝혀냈다. 또 피고인들이 설립한 중국 반도체 회사가 조직적으로 범행을 계획·실행한 사실을 확인해 이 회사도 기소했다.