검찰이 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 삼성전자 전직 부장에게 징역 20년을 구형했다.
검찰은 서울중앙지법 형사25부(지귀연 부장판사) 심리로 12일 열린 김 모 씨의 1심 결심공판에서 징역 20년을 선고해달라고 재판부에 요구했다. 이는 그가 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 혐의로 1월 재판에 넘겨진 지 11개월 만이다. 김 씨와 함께 기소된 협력 업체 전 직원 방 모 씨에게는 징역 10년을 구형했다.
김 씨는 중국 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단으로 유출한 혐의를 받는다. 해당 기술은 국가핵심기술에 해당하는 것으로 알려졌다. CXMT는 설립 수년 만에 중국의 주요 D램 반도체 업체로 빠르게 성장해 한국과 미국 경쟁사들과 기술 격차를 좁혀나가고 있다. 방 씨는 김 씨와 공모해 반도체 장비 납품 업체인 A사의 설계 기술 자료를 중국 회사에 넘긴 혐의를 받는다.
검찰은 “기술 유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대한 범죄”라며 “이들은 조직적으로 자료를 유출하고 부정 사용했으며 그 과정에서 범행을 은폐하기 위해 각종 증거를 삭제하고 관련자들과 진술을 맞췄다”고 지적했다. 이어 “피고인들이 유출하고 부정 사용한 자료들은 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 것이자 국가핵심기술인데, 가볍게 처벌한다면 기업들로서는 오랜 시간과 비용을 들여 기술 개발에 매진할 동기가 없어진다”며 “동종 업체가 인재 영입을 빙자해 우리나라 기업이 각고의 노력으로 쌓아온 것을 손쉽게 탈취하는 일을 방치해서는 안 된다”고 강조했다.
김 씨는 최종 진술에서 “중국 CXMT의 모든 자료는 CXMT의 경영층과 박사급들이 만들어내는 자료로, 제가 만들 수 있는 자료는 일부에 불과하다”면서도 “진심으로 사죄한다”고 말했다.
김 씨에 대한 1심 선고는 내년 1월 22일 진행될 예정이다.
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