|
한국기계연구원은 기존보다 절반 이하의 비용으로 반도체 공정에서 배출되는 지구온난화 가스를 99% 이상 절감할 수 있는 플라즈마 공정가스 처리기술 개발에 성공했다고 30일 밝혔다. 플라즈마연구실 송영훈 박사팀은 기존 장비가 설비 가격과 유지비용이 많이 든다는 단점에 착안, 플라즈마 발생을 위한 장치를 단순화시켜 설비 가격을 절반 이하로 낮췄다. 특히 연구팀은 진공 플라즈마를 이용한 새로운 기술로 2차 오염원이 발생되지 않게 했으며, 온실가스를 처리하는 경우에만 설비를 구동시켜 에너지 비용을 기존 소각공정의 10% 수준으로 절감시켰다. 관련 설비는 전 세계적으로 연간 3,000억 원 규모인 반도체 공정가스 소각설비를 대체할 수 있을 것으로 연구팀은 전망하고 있다. 송영훈 박사는 “이번 기술 개발로 친환경적인 반도체 공정을 위해 많은 노력을 기울이고 있는 국내외 반도체 업계에 큰 영향을 미칠 것”이라며 “향후 반도체 공정 외에도 LCD·OLED 등 디스플레이 공정의 온실가스 처리나 진공펌프 수명 연장에 적용될 가능성이 매우 높다”고 밝혔다. @sed.co.kr
< 저작권자 ⓒ 서울경제, 무단 전재 및 재배포 금지 >
