에스앤스텍, 日 업체와 특허소송 승소

에스앤에스텍이 3년간의 소송 끝에 경쟁업체인 일본 호야사와의 특허무효소송에서 최종적으로 승소했다.

LCD용 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍은 특허법원의 위상시프트 블랭크마스크 특허무효 판정에 대한 호야측의 상고를 대법원에서 기각했다고 1일 밝혔다.

이번에 무효 처리된 호야의 특허는 반도체 제조시 패턴의 정밀도를 획기적으로 향상시킬 수 있는 하이엔드급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 특허다. 에스앤에스텍은 이번 소송과별도로 지난해 9월 호야측에서 제기한 위상시프트 블랭크마스크 및 그 제조방법에 대한 특허침해소송에서도 승소한 바 있다.

회사 관계자는 "이번 무효소송 최종 승소로 일본업체가 독점해오던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 계기가 마련됐다"고 설명했다.

호야는 일본업체들이 과점해오던 블랭크마스크 시장에 에스앤에스텍이 진출하자 지난 2005년 9월 서울중앙지법에 특허침해소송을 제기했으며 에스앤에스텍은 이에 맞서 특허심판원에 특허무효심판을 청구해 지난 2007년 7월 특허무효 판정을 이끌어냈다.