삼성전자, 온양에 8,000억 투자 비메모리 공장 건설

삼성전자가 연내 8,000억원을 투자, 충남 온양에 비메모리 전용 생산라인을 건설한다.

삼성전자는 16일 여의도 63빌딩에서 가진 경영설명회에서 올해 비메모리 부분에 책정된 8,200억원의 투자액중 8,000억원을 온양공장의 시스템LSI 전용 라인을 구축하는데 사용키로 했다고 밝혔다. 온양 공장은 지난 2000년 비메모리 반도체 육성을 위해 투자가 결정됐으나, 당시 반도체 시황이 나빠지면서 투자 집행이 보류돼왔다.

현재는 기흥과 화성공장에서 생산하는 메모리반도체의 후공정(조립)에 사용되고 있다.

삼성전자 관계자는 “온양공장에서는 여러 개의 칩을 하나로 단일화한 SOC(시스템온칩)를 주로 생산할 것”이라며 “내년부터 본격 가동에 들어갈 예정”이라고 설명했다.

이날 설명회에서는 또

▲D램 제품을 고부가가치로 전환키 위해 512메가 D램 양산체제를 구축, 연내 1,000만개를 생산하고

▲새로운 수익원인 NAND(데이터저장용)형 플래시메모리도 전년대비 133% 늘리겠다고 밝혔다.

<김영기기자 [e-mail]>