삼성전자가 올해 시설투자에 사상 최고 금액인 46조 2,000억 원을 쓸 것이라고 31일 밝혔다.
부문별로는 반도체 사업에서 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 라인 증설, D램 공정 전환, 파운드리 증설 투자 등에 29조 5,000억 원을 투입한다. 디스플레이 사업에서는 플렉서블 OLED 패널 생산설비 확대 등을 위해 14조 1,000억 원을 투자할 계획이다.
지난해 삼성전자 시설투자 규모는 25조 5,000억 원이었다.
/정지형인턴기자 kingkong93@sedaily.com
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