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[시그널] 반도체 공정가스 부품사 ‘아스플로’···다음달 코스닥 입성

공모가 최대 2만 2,000원으로 63만 주 공모

주관사 미래에셋증권





반도체 공정가스 부품사 아스플로가 추석 연휴 이후 기업공개(IPO) 청약에 나선다.

아스플로는 16일 IPO 온라인 간담회를 열고 63만 주를 공모한다고 밝혔다. 주당 공모가는 1만 9,000~2만 2,000원으로 최대 139억 원을 조달한다는 계획이다. 17일까지 수요예측을 통해 공모가를 확정한 뒤 27~28일 일반 투자자 청약에 나선다. 상장 예정일은 다음 달 7일이다.



2001년 설립된 아스플로는 전량 수입에 의존했던 반도체 공정가스 부품소재 시장에서 극청정 표면 처리 기술 개발로 국내 최초로 고청정 배관부품 국산화에 성공한 회사다. 특히 전 부품 일괄생산 시스템을 갖춘 것이 경쟁력으로 꼽힌다. 보통 반도체 공정가스 부품소재를 생산하는 기업은 일부 부품만 생산하지만 아스플로는 반도체 가스공급 관련 모든 시공과 장비용 부품을 생산 공급할 수 있는 ‘전 부품 일괄생산 시스템’을 구축했다.

강두홍 아스플로 대표는 “아스플로는 국내 최초로 반도체 공정가스 부품 국산화에 성공에 성공한 기업”이라며 “지속적인 기술개발과 시장에 필요한 제품으로 글로벌 반도체 공정가스 부품소재 선도기업이 되겠다”고 말했다.
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