일본의 JSR은 반도체 노광 공정에 사용되는 포토레지스트 점유율 1위 업체다. JSR의 기존 주력 사업은 플라스틱·고무 재질의 제품 가공 및 판매였으나 최근 극자외선(EUV) 산업이 주목을 받으면서 반도체 분야에 역량을 집중하고 있다. 포토레지스트는 웨이퍼 위에 도포되는 소재로 노광 공정에서 빛을 받으면 화학변화를 일으켜 반도체 회로를 그리는 작업에 사용된다. 최근 JSR은 메탈계 EUV 포토레지스트 개발 업체인 인프리아(Inpria)를 인수하며 산업 내 역량을 더욱 강화시키는 데 몰두하고 있다. 포토레지스트 업계 내 주요 경쟁사로는 일본의 신에츠(Shin-Etsu)가 있다.
EUV 적용처는 기존 파운드리에서 최근 메모리까지 확대되고 있다. 삼성전자는 D램 공정 내 EUV 적용 레이어를 확대시키고 있고 후발 주자인 SK하이닉스와 마이크론도 EUV 도입을 시작했다. EUV 노광 장비를 독점 생산하는 네달란드의 반도체 장비 업체 ASML은 최근 인베스터 데이에서 EUV 장비 수요 급증 효과로 실적 가이던스를 상향 조정한 바 있다. ASML의 EUV 장비 공급량은 지난 2020년 31대, 올해 44대, 오는 2025년 70대로 증가할 것으로 예상되며 장비 수주 모멘텀 확대는 포토레지스트 소재 수요 확대로 이어질 것이다.
JSR은 현재 주요 고객사로 삼성전자와 인텔을 확보하고 있으나 TSMC 3㎚(나노미터·10억분의 1m)향으로도 포토레지스트 소재 공급을 준비하고 있다. TSMC는 3나노 공정을 내년 하반기부터 본격 도입할 것으로 전망되며 증가하는 수요에 대응하기 위해 JSR은 신규 공급 능력 증설도 단행하고 있다.
반도체 산업 내 미세 공정이 가속화됨에 따라 최근 포토레지스트 시장 내 ‘무기 포토레지스트’의 필요성이 대두되고 있다. 현재 사용되는 유기 포토레지스트는 패턴 형성 시 해상도가 낮아지는 문제가 발생하고 있기 때문이다. JSR이 인수한 인프리아는 무기 포토레지스트를 개발하는 대표 기업으로 향후 JSR과의 시너지가 기대된다. JSR은 3나노 공정부터 무기 포토레지스트 도입 가능성을 언급했다. EUV의 중요성이 확대되고 있는 가운데 EUV 포토레지스트 시장 내 역량을 강화시키고 있는 JSR에 대한 긍정적인 접근이 필요한 시점이다.
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