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[단독]"日처럼 기술유출 전담법원 필요"…양향자 '기술탈취방지 3法' 발의

특허법원→기술특허법원 바꿔

지재권 분쟁 소송 전문성 확보

기술보호법·첨단산업법도 개정

외국인투자 심사 실효성 높이고

'최고 10배' 기술유출 처벌 강화

삼성전자 반도체 공장. 서울경제DB




반도체·배터리 등 국가전략기술에 대한 유출 우려가 커진 가운데 관련 사건 전담 법원 설치를 위한 입법이 국회에서 추진된다. 기존의 특허법원을 ‘기술특허법원’으로 확대 개편해 기술권 침해 여부, 피해 규모 등 쟁점에 대한 신속 정확한 판단을 내리자는 취지다. 정부·법원도 특허법원의 관할 범위를 넓히는 방안을 검토하고 있다.

3일 국회 산업통상자원중소벤처기업위원회에 따르면 삼성전자 출신의 양향자 한국의희망 의원은 이달 법원조직법·산업기술보호법·첨단전략산업법으로 구성된 ‘기술 탈취 방지 3법’을 발의한다. 가장 눈에 띄는 대목은 법원조직법 개정안이다. 지식재산권(IP) 분쟁을 전문으로 한 특허법원의 심판권 항목에 산업기술 유출 및 침해 행위 사건을 추가하고 법원의 명칭을 ‘기술특허법원’으로 바꾼다는 것이 핵심이다.

양 의원이 기술 전담 법원 신설에 나선 것은 우위에 있는 반도체·2차전지 기술이 중국 등의 탈취 대상이 됐지만 현행 사법 시스템으로는 이를 예방하는 규율 확립에 한계가 크다는 진단 때문이다. 기술 유출은 기업의 존망을 좌우할 만큼 심각한 범죄지만 2017~2021년 산업기술보호법 위반으로 처리된 1심 유죄판결 중 74.1%가 최종심에서 무죄·집행유예 같은 가벼운 처벌을 받는 데 그쳤다. 기술 가치나 손해액 산정의 어려움으로 감경 요소를 인정받기 쉬운 데다 통상적인 민형사 사건을 담당하는 재판부가 전문성을 요하는 기술 쟁점에 대해 명확한 판단을 내리기에는 한계가 있다는 지적이 제기됐다.



실제 주요 정보기술(IT) 강국들은 기술 유출 사건을 전문 법원에서 다루고 있다. 일본은 도쿄·오사카 법원이 산업 및 핵심 기술에 대한 사건을 맡고 대만도 영업비밀과 관련한 민형사 사건을 지식재산권 및 상업 법원(IPCC)에서 관할한다. 양 의원은 “우리 법원도 지식재산권 전담 재판부를 운영하고 있지만 2년마다 순환근무해 전문성을 갖출 수 없는 환경”이라며 “기술 사건을 전담하는 전문 법원을 설립해야 한다”고 강조했다.



정부·법원 차원에서도 기술 유관 소송을 특허법원에 집중시키는 방안이 검토되고 있다. 행정부·사법부·민간이 참여하는 국가지식재산위원회 산하 ‘지식재산권 관련 소송 전문성 제고 특별전문위원회’가 지식재산권 소송의 전문성 제고 방안을 찾는 과정에서 기술 등 영업비밀, 부정경쟁 행위 사건의 1심과 2심을 각각 고등법원이 소재한 6개 지방법원, 특허법원에 전속시켜야 한다는 의견이 나온 것으로 알려졌다. 특허법원 관계자는 “민사 사건인 영업비밀, 반도체 배치 설계권 등의 2심을 특허법원이 하자는 논의가 특위에서 있었다”며 “이와 병행해 관련 형사 사건 또한 특허법원에 맡기는 게 효율적이라는 의견도 있었다”고 설명했다. 지재위 관계자는 “특허법원의 전문성을 살리는 방안에 대한 논의를 진행 중”이라고 밝혔다.

산업기술보호법과 첨단전략산업법 개정안에는 외국인 투자 심사의 실효성을 제고하는 방안이 담겼다. 현행 국가핵심기술 기업에 대한 외국인투자승인제도는 지배력(지분 50%이상) 확보 건 등 일부를 대상으로 하는데 개정안은 지배력을 확보하지 않더라도 기술이 유출될 가능성이 있는 외국인 투자는 정부에 사전 신고해야 한다고 명시한다. 범죄 기대이익을 상쇄할 수 있을 만큼 강력한 처벌 규정도 정비됐다. 현재 3배인 징벌적 배상액 최고 한도를 10배로 상향하고 중개·알선 행위에 대한 별도의 벌칙 조항도 마련해 브로커도 처벌하도록 했다.
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