올해 9월 국내 한 반도체 장비기업은 예스티가 개발 중인 고압 어닐링 장비가 자사의 특허를 침해했다며 특허 소송을 제기한 바 있다. 예스티는 해당 특허소송 진행과 관련해 상세한 의견서를 통해 침해가 아니라는 점을 적극 소명하고 있다.
예스티 관계자는 “특허 소송 대응과 별도로 무효심판 청구를 통해 이번 특허 분쟁의 기초가 되는 경쟁사의 특허권을 원천적으로 무효화시킬 것”이라며 “일반적으로 특허 소송은 판결까지 오랜 시간이 걸리지만, 이번 무효심판은 신속심판 대상으로 무효심판에서 승소할 경우 조속한 분쟁종결이 가능할 것으로 본다”라고 말했다.
예스티는 지난 2021년부터 자체 압력 및 열제어 기술을 기반으로 고압 어닐링 장비를 개발해 왔다. 최근 복수의 글로벌 반도체 기업과 상용화 및 양산 테스트를 추진하고 있다. 올해 4월에는 차세대 고압 어닐링 장비 개발과 관련한 국책과제에 단독으로 선정됐다.
예스티 관계자는 “소송이 진행 중이기 때문에 기술적인 사항을 자세히 이야기할 수는 없지만, 예스티는 이러한 분쟁을 예상하고 고압 어닐링 장비 개발 초기부터 특허 문제에 대비해 왔다”라며 “다수의 외부 특허 및 법률 자문기관을 통해 특허 사항을 충분히 검증한 만큼 특허 분쟁에서 승소를 자신하고 있다”고 강조했다.
고압 어닐링 장비는 반도체 핵심 공정인 어닐링 공정에 필요한 장비다. 어닐링 공정은 반도체의 SiO(실리콘 옥사이드) 표면 결함을 고압의 수소·중수소로 치환해 신뢰성(Reliability)을 향상시키는 단계다. 반도체는 어닐링 공정을 거치면 구동 전류 및 집적회로 성능이 높아진다. 글로벌 반도체 기업들이 10nm 이하 초미세 공정을 확대하면서 고압 어닐링 장비가 시장의 주목을 받고 있다.
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