삼성전자, 지난해 시설투자 53.1조…반도체 90% 비중

삼성전자 평택 캠퍼스. 사진제공=삼성전자

삼성전자(005930) 재무분석차트영역상세보기가 지난해 4분기 전체 시설투자 금액의 90% 이상을 반도체 부문에 썼다.

삼성전자가 4분기에 16조 4000억 원 규모의 시설 투자를 단행했다고 31일 밝혔다. 사업별로는 반도체(DS) 부문에 14조 9000억 원, 디스플레이 8000억 원 수준이다.

2023년 연간으로는 지난해와 동일한 수준인 53조 1000억 원을 기록했다. 반도체 사업에 48조 4000억 원, 디스플레이 2조 4000억 원이 집행됐다.



메모리의 경우 4분기에도 중장기 수요 대응을 위한 클린룸 확보 목적의 평택 투자, 기술 리더십 강화를 위한 R&D 투자 확대와 함께 HBM/DDR5 등 첨단공정 생산 능력 확대를 위한 투자가 지속됐다. 파운드리(반도체 수탁생산)는 극자외선(EUV)을 활용한 5나노 이하 첨단공정 생산 능력 확대와 미래 수요 대응을 위한 미국 테일러 공장 인프라 투자로 전년 대비 연간 투자가 증가했다.

디스플레이는 유기발광다이오드(OLED) 및 플렉시블 제품 대응 중심으로 투자가 집행됐다.

삼성전자는 앞으로도 미래 경쟁력 확보를 위한 시설투자와 연구개발(R&D) 투자를 꾸준히 이어갈 방침이다.