반도체시설 창문까지 규제하는 전파법 완화한다

전파법 개정안 국무회의 통과

과학기술정보통신부는 전파 이용 관련 규제를 완화하는 ‘전파법 시행령’ 개정안이 10일 국무회의를 통과했다고 밝혔다. 특히 반도체 제조시설 구축을 제한했던 전파법 규제를 완화해 산업 육성을 지원할 방침이다.

개정안은 기존과 달리 건물의 재질과 창문 유무와 관계없이 전자파 차폐시설만 갖추면 전파응용설비를 사용하는 ‘다중차폐시설’로 인정한다. 전파응용설비는 전파를 이용하여 물체를 가열, 절단, 세척하는 공정 등에 사용되는 설비로 반도체 제조시설에 필요하다. 이에 반도체 제조시설 역시 다중차폐시설 기준을 충족해야 지어질 수 있는데 이 기준이 낮아진 것이다.



최병택 과기정통부 전파정책국장은 “이번 제도개선은 반도체 업계의 현장 목소리를 빠르게 정책에 반영해 관련 산업을 지원하기 위해 마련한 것”이라며 “전파응용설비를 운용하는 시설자의 검사규제를 완화해 제품의 원활한 생산 지원 및 산업 활성화에 크게 기여할 것으로 기대된다”고 말했다.